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材料

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發布時間:2019/05/22 點擊量:

型號:無

類別:材料

基本參數:硅產生于卓科拉爾斯基拉單晶技術(CZ)并且包含一些形成9納米吸收帶的物質。 為了避免這種情況,材料可以通過浮動區域精煉法提純。光學硅通常含有輕微的雜質 (5-40 ohm cm)以獲得超過10微米的傳輸,

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產品介紹

硅產生于卓科拉爾斯基拉單晶技術(CZ)并且包含一些形成9納米吸收帶的物質。為了避免這種情況,材料可以通過浮動區域精煉法提純。光學硅通常含有輕微的雜質(5-40 ohm cm)以獲得超過10微米的傳輸,所選用的雜質一般是硼(p-type)或者磷(n-type)。經過摻雜處理后的硅可以得到更寬泛的傳輸范圍:30-100微米。

CZ 硅通常用于紅外反射鏡的感光底層材料或者1.5-8微米范圍內的窗口鏡。由于在9微米處存在強大的吸收帶,因此不適合Co2激光的傳輸應用,但由于其高熱傳導率和低密度的特性,所以被頻繁的用作激光鏡。作為窗口鏡的應用,鏡頭在1.5-8µm范圍內;作為激光鏡則一般用作Co2激光或者分光計。

硅的光學等級

CZ, P type 摻雜硼, <111> or <100>, 電阻系數 5-40 ohm cm

FZ, N type 摻雜磷, <111>, 電阻系數 > 50, 更適合 > 500 ohm cm,在9微米處不存在吸收現象。

產品規格


CZ, P type 摻雜硼, <111> or <100>, 電阻系數 5-40 ohm cm FZ, N type 摻雜磷, <111>, 電阻系數 > 50, 更適合 > 500 ohm cm,在9微米處不存在吸收現象。
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